La crescita di deposizione del DLC MIDA avviene mediante un processo di rivestimento PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition) nel quale è possibile ottenere depositi di carbonio amorfo con caratteristiche simili al diamante. Il processo di deposizione PACVD inoltre consente di limitare la temperatura del substrato durante la deposizione evitando deformazioni e cambiamenti di struttura delle leghe; si possono quindi trattare anche materiali con basso punto di fusione come l'alluminio.

Il rivestimento ben aderente e omogeneo è caratterizzato da ottima resistenza chimica ed è inattaccabile da soluzioni acide o alcaline e da agenti organici.

Proprietà del Rivestimento DLC MIDA
Struttura Rivestimento Monostrato
Struttura Reticolo Amorfo
Microdurezza 2000 - 4000 HV
Coefficiente di Attrito < 0,1
Temperatura Massima di Servizio (°C) 400
Colore del Rivestimento Nero (Antracite)

 

Proprietà Rivestimento Flash Cr + DLC MIDA
Microdurezza > 2000 HV
Coefficiente di Attrito < 0,1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Caratteristiche Tecniche

Vantaggi

Rivestimenti Dlc

 

Caratteristiche Tecniche

Vantaggi

Rivestimenti Dlc

 

Caratteristiche Tecniche

Vantaggi

Rivestimenti Dlc

Vantaggi

 

Automotive

Alimentare

Beverage

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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